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多晶硅生產設備清洗的意義
時間:2018-05-28 來源: 北京德高潔清潔設備有限公司
多晶硅按不同的用途可分為太陽能級多晶硅和電子級多晶硅兩類。太陽能級多晶硅的純度一般在5~7N,主要雜質為Fe、Cr、Ni、Cu、Zn 等,金屬雜質總含量≤0.2(太陽能三級品要求)。電子級多晶硅一般含Si>99.9999%以上,超高純達到99.9999999%~99.999999999%,即9~11N,其導電性為10- 4~1010Ω·cm,碳濃度<2×1016at·cm- 3。
油脂、水分、氯離子殘留、金屬氧化物、氯化物、灰塵及其他雜質,對多晶硅的純度影響極大。在多晶硅設備制造、安裝和多晶硅生產過程中清洗是十分重要的部分,要按多晶硅生產工藝,對不同潔凈度要求、不同材質的設備采用不同的清洗方法。'
多晶硅設備的清洗的不同階段:
1、設備制造階段的清洗
金屬設備及管道、零件需要在除漆前將表面的氧化皮和鐵銹除掉,設備內部的油脂、軋制鱗片、銹皮等也需要進行清洗。
2、多晶硅設備安裝階段的清潔
由于工藝管道輸送的介質特性及產品純度要求,對管道的焊接質量及內部清潔、吹掃試壓均有較高要求,對設備進場驗收、檢驗及安裝、內部處理也有較高要求,因此設備制造結束后的清洗處理至關重要。在裝置進行試生產前期,系統(tǒng)注入四氯化硅進行循環(huán)清洗約2~3個月,時間的長短取決于設備前期清洗情況。
3、多晶硅設備生產期間的清洗
還原爐和氫化爐是改良西門子法生產多晶硅的核心設備,其運行好壞直接影響多晶硅質量及生產成本。多晶硅生產對還原爐的沉積環(huán)境的潔凈度要求特別關鍵,任何顆粒性雜質、油脂等物質余留在爐內,都會對產品質量造成影響。北京德高潔清潔設備有限公司經過研發(fā)設計并制造出了多晶硅自動化還原爐鐘罩清洗系統(tǒng),可以完全將多晶硅還原爐鐘罩清洗干凈,滿足生產需求。
德高潔電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)包括低壓熱水清洗動力裝置、三維洗罐器、旋轉和升降執(zhí)行機構、清洗工作臺、萬級凈化干燥系統(tǒng)、循環(huán)過濾系統(tǒng)、控制裝置、微負壓系統(tǒng)、清洗工作臺、電氣控制系統(tǒng)等,系統(tǒng)實現(xiàn)了鐘罩的全自動清洗和烘干操作。
電子級多晶硅還原爐鐘罩自動清洗系統(tǒng)特點:以水力自驅動三維洗罐器為噴頭,形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒內部表面的水力掃射。配以旋轉和升降的清洗吹干執(zhí)行機構,準確定位。操作簡單方便,系統(tǒng)控制,清洗、吹干自行調整。不僅可以滿足對內壁和視孔鏡的清洗,同時也滿足了底部法蘭的清洗。
在整個還原爐的清洗過程中,清洗、干燥中筒內形成微負壓狀態(tài),防止清洗外溢,同時將底座與筒體下法蘭處的污染物等一并吹掃,通過排污管排出,從而保證了整個過程不會對潔凈區(qū)造成污染。
生產多晶硅的工藝復雜,設備清洗是可以降低能耗保證多晶硅產品質量的。多晶硅生產企業(yè)對設備須從選型、選材、清洗等方面進行合理、科學的管理,應用現(xiàn)代技術,進行全程清洗,以充分發(fā)揮設備功效,為安全、高效生產創(chuàng)造條件。
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